複折射測量

複折射測量
PA-110
2次元複屈折評価装置
WPA-100
大型分佈型 2次元複屈折評価裝置
PI-110
偏光攝影畫像相機
【特徴】
使用獨自技術的照度結晶
可高速的測定面内複屈折分布
◎低相位差:相位差評価分佈幅 <130nm
【特徴】
PA-110同様的加入了獨自照度結晶、搭載上3波長的偏光解析來做高相位差分布幅評價。
◎低~高相位差取向:相位差評価分布幅 <1000nm
【特徴】
可做偏光畫像寫實類型的動畫觀察。
【用途】
透明體材料
鏡片、光学材料、光学薄膜、石英、藍寶石、
化合物晶圓、UV硬化接著劑的内部歪斜
【用途】
透明體材料
鏡片、光学材料、光学薄膜、石英、藍寶石、化合物晶圓、UV硬化接着劑的内部歪斜
【用途】
雷射的偏光剖面觀察、透明体的歪斜觀察、細胞觀察、肌表面觀察、安全防護

PA-micro 顯微鏡型
2次元複屈折評価装置
WPA-micro 
顯微鏡型廣泛分布幅
2次元複屈折評価装置
【特徴】
變更為PA-110的顯微鏡款式。
對應顯微鏡視野的尺寸、由低倍到高倍的物鏡使用可做微小範圍的二次元複屈折評價。
◎低相位差取向:相位差評価分布幅 <130nm
【特徴】
變更為WPA-100的顯微鏡型式。
新機能的反射偏光觀察機能及觀察時的範圍類型在偏光畫像監控的評価位置的設定上更容易。
◎低~高相位差取向:相位差評価分布幅 <1000nm
【用途】
透明體材料
光纖或薄膜斷面等的相位差分布、接電器、高分子球晶、偏光顯微工具等皆能活用。
【用途】
透明體材料
光纖或薄膜斷面等的相位差分布、接電器、高分子球晶、偏光顯微工具等皆能活用